在氧化铝表面镀铂或镀铱，可以采用以下几种工艺方法：
1. 电镀铂层
电镀是一种在基体材料表面制备贵金属镀层的方法。对于氧化铝表面镀铂，可以采用水溶液镀铂或熔盐镀铂两种方式：
水溶液镀铂：使用含有铂化合物的溶液，如铂P盐（亚硝酸二氨铂）[Pt(NH3)2(NO2)2]，通过电解方法在氧化铝表面沉积铂层。这种镀液稳定且易维护，可以镀取光亮或半光亮的铂镀层。
熔盐镀铂：始于20世纪30年代，最初采用锂和钾的氯化物熔盐作为电解质，后来采用碱金属氰化物熔盐电镀获得了成功。主要用于难熔金属（如钼、钨、钛）上镀铂，美国、西德、英国等已用于工业生产。熔盐镀铂工艺复杂、费用较大，难于镀大面积镀件，因此其应用受到限制。
2. 蒸镀+直流溅射工艺
另一种方法是蒸镀+直流溅射工艺，这种方法涉及到将铂丝直接放置在钨丝篮中，通过手动加热和控制电流来实现铂的蒸发和沉积。这种方法需要精确控制真空度和温度，以确保铂丝融化并沉积在氧化铝表面。
3. 化学气相沉积（CVD）
化学气相沉积是一种在氧化铝表面沉积铂或铱薄膜的技术。通过将含铂或铱的气体前体引入到反应室中，在氧化铝表面发生化学反应，生成铂或铱薄膜。这种方法可以实现均匀、致密的薄膜沉积，适用于制备高性能的薄膜材料。
4. 物理气相沉积（PVD）
物理气相沉积，如磁控溅射，是一种在氧化铝表面沉积铂或铱薄膜的技术。在这种技术中，铂或铱靶材被离子轰击，使得靶材的原子或分子被溅射出来，并在氧化铝表面沉积形成薄膜。这种方法可以提供良好的薄膜附着力和均匀性。
以上方法可以根据具体的应用需求和设备条件来选择，以实现在氧化铝表面镀铂或镀铱的目的。每种方法都有其特定的优势和限制，选择合适的工艺对于获得高质量的镀层至关重要。